<tr id="wjefu"></tr>
  1. <thead id="wjefu"><option id="wjefu"></option></thead>

  2. <i id="wjefu"><p id="wjefu"></p></i>

    <code id="wjefu"></code>
    <th id="wjefu"><video id="wjefu"></video></th>
  3. <code id="wjefu"></code>
      1. <object id="wjefu"></object>
        <th id="wjefu"><option id="wjefu"></option></th>
        <code id="wjefu"></code>

        您好!歡迎訪問科睿設備有限公司網站!
        咨詢熱線

        13916855175

        當前位置:首頁 > 產品中心 > > 光刻機,勻膠機 > 激光直寫無掩膜光刻機

        激光直寫無掩膜光刻機

        簡要描述:激光直寫無掩膜光刻機紫外光直寫曝光 ,無需掩模,大幅節約了掩模加工費用,靈活性高,可直接通過電腦設計光刻圖形,并可根據設計要求隨意調整,可升級開放性系統設計,按照客戶要求自由配置,使用維護簡單, 設備耗材價格低,應用范圍廣,目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。

        • 產品型號:
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2021-12-23
        • 訪  問  量:3903

        產品分類

        Product Category

        相關文章

        Related Articles

        詳細介紹

        品牌自營品牌產地類別國產
        應用領域化工,生物產業,電子

        激光直寫無掩膜光刻機
        美國AMP(Advanced Micro Patterning, LLC)公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術,已成為無掩模紫外光刻領域的。國內參考用戶較多!


        產品優點:
        微米和亞微米光刻,最小0.6微米光刻精度
        紫外光直寫曝光,無需掩模,大幅節約了掩模加工費用
        靈活性高,可直接通過電腦設計光刻圖形,并可根據設計要求隨意調整。
        可升級開放性系統設計。
        按照客戶要求自由配置
        使用維護簡單, 設備耗材價格低。
        應用范圍廣,目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。
        曝光鏡頭
        •   光源:200W汞燈.
        •   光源壽命:>1000小時.
        •   涵蓋了汞燈的波段,范圍寬, >510nm 下對準
        襯底光照波長:
        365nm+/-5 nm
        405 nm+/-5nm
        435nm+/-5 nm
        •   波段曝光模式,可以在波段350–550nm范圍內進行單次曝光.
        •   像素大小Pixel Sizes included with system
        1.25微米, 4X 物鏡, (5 um 最小線寬)
        0.25微米, 20X 物鏡, (1 um 最小線寬)
        •   256級灰度識別
        •   4X物鏡可以在曲面構建1mm 深的結構, 而不用移動鏡頭和樣品臺
        •   一體化的光學過濾器可以在曝光過程中保持工作.
        •   可以使用掩膜板和無掩膜兩種工作模式.
        •   可以實現整個XY軸樣品臺移動范圍內的大尺寸圖形曝光.
        •   單一在線式相機可以觀測樣品并聚焦樣品。.
        •   多像素曝光可以提供大于750000個像素處理,在一次靜態曝光中.

        一體化硬件和軟件功能
        •   C語言基礎上的軟件,使用方便,修改以及和其它系統整合容易.
        •   全自動聚焦
        •   鏡頭和樣品臺在視場內校準。
        •   管理員可控制使用者權限
        •   程序可存儲及調用
        •   全自動面與面之間的對準,自動找平
        •   遠程網絡診斷
        •   微軟Windows程序的個人電腦,集成與系統中.

        全自動樣品臺
        •  適合60mm方片襯底.
        •  曝光面積60mmx 60mm,在此面積內適合所有像素尺寸.
        •  線性位移平臺
        •  X軸和 Y軸移動
        •  總移動范圍: 60mm
        •  準確性:+/-1微米,在每個軸的位移總長
        •  重復性: +/-150nm ,每個軸
        •  精度:5nm,每個軸
        •  Z 軸移動
        •  總移動范圍:5mm
        •  準確性:+/- 0.5微米
        •  重復性: +/-250nm
        •  旋轉角度移動
        •  總移動范圍: 135度
        •  準確性:+/-5 arcsec
        •  重復性: +/-2 arc sec
        •  4軸控制器,并開發數字界面.
        •  通用的真空吸附樣品臺,支持方片襯底

        CCD相機
        •  1/2”步進掃描式CCD
        •  感應區域:6.4mmx4.8mm
        •  1392x 1024像素陣列
        •  像素大?。?.65微米x4.65微米
        •  IEEE1394 視頻輸出
        •  保證*兼容NI Windows軟件

         

         

        產品咨詢

        留言框

        • 產品:

        • 您的單位:

        • 您的姓名:

        • 聯系電話:

        • 常用郵箱:

        • 省份:

        • 詳細地址:

        • 補充說明:

        • 驗證碼:

          請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
        掃一掃,關注微信
        地址:上海市楊浦區松花江路251弄白玉蘭環保廣場3號902室 傳真:021-55781190
        ©2023 科睿設備有限公司 版權所有 All Rights Reserved.  備案號:
        ,成人性生交大片免费看R,人妻少妇精品专区性色AV,精品国富产二代APP官方入口
        <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>
        掃一掃訪問手機站掃一掃訪問手機站